真空斷路器的發(fā)展因素
真空斷路器的發(fā)展很快，究其原因，固然有很多，但是基本的卻只有兩條：一是真空滅弧室技術的進步；二是操動機構技術的進步。真空滅弧室是真空斷路器的心臟。真空滅弧室的進步主要表現(xiàn)在如觸頭材料從CuBi轉(zhuǎn)變成CuCr，提高了開端能力，降低了截流值，同時磁場從橫磁場轉(zhuǎn)向縱磁場，減少了觸頭的燒損。在工藝上，一次排封工藝的采用，使得提高了滅弧室性能及可靠性。
操動機構被稱之為真空斷路器的神經(jīng)中樞，原先用電磁機構，后來出現(xiàn)了彈簧機構，最新又出現(xiàn)了永磁機構。彈簧機構結(jié)構復雜，零件數(shù)多（多達200個），加工精度要求高，且彈簧機構的出力特性與真空斷路器的負載特性不相匹配，要在凸輪輪廓曲線和連桿結(jié)構上進行合理設計。永磁機構的機械結(jié)構特別簡單，零部件比任何其他機構都要少，運動部件可以減少至一個，因而機械可靠性特別高，而且永磁機構的出力特性能與真空斷路器的負載特性很好的匹配。永磁機構用永磁鎖扣，電容器（或直流屏供電）儲能，用電子控制。永磁機構特別適用于頻繁操作，如可達6萬～15萬次
